Buried Interface Sciences with X-rays and Neutrons 2018
薄膜・多層膜の埋もれた界面のX線・中性子解析2018
申し込み
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http://xray-neutron-buried-interface.jp/ApplicationWorkshop2018.html
主催
（公社）応用物理学会 埋もれた界面のＸ線・中性子解析研究会
共催
（国）物質・材料研究機構先端材料解析研究拠点
ＴＩＡ放射光フォーラム（交渉中）
趣旨
ナノテクノロジーの研究開発においては、物質によって覆われた「埋もれた界面」の原子配列や分子レベルの構造を解明する必要がある。こうした研究対象を非破壊、かつ定量的に解析するには、表面・界面敏感なＸ線・中性子等の活用が最も有望であるものの、半導体・電子デバイスから化学・バイオ系に至るさまざまなタイプの複雑さをも伴った薄膜への適用は必ずしも単純にはゆかない。また、測定上の困難はあったとしても、不均一さ、時間的変化をこれまで以上に研究することが重要になってきている。埋もれた界面のＸ線・中性子解析に関わる、こうした課題の検討は、わが国においては、2001年12月のフォトン・ファクトリー研究会（茨城県つくば市）を契機として、約17年間にわたって継続的に行われてきた。その間、世界各地で新第３世代光源が多数建設され、Ｘ線自由電子レーザーの利用が始まり、加速器ベースの大強度中性子源を活用した研究も広がりを見せるなど、Ｘ線源・中性子源の発展は著しいものがある。本研究会では、こうした新しいＸ線源、中性子源を効果的に活用し、これまでの未解明の問題に手がかりを与える研究テーマについての討議を深め、現在の進捗と将来計画を交流するとともに、新分光器、検出器、特殊試料セル等の技術開発に関するさまざまなレベルの意見交換を行う。本研究会の多くの参加者は、加速器・原子炉等の大型施設の利用者でもあるが、消費的な利用者ではなく、科学研究において一級の生産者であるための高度利用をめざしたいと願っている。その文脈の中で、次の5年、10年の新たな研究の方向性を語る機会としたい。
日時
２０１８年１月２１日（日）〜２３日(火)
場所
（国）物質・材料研究機構千現地区 第１会議室 (〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1 電話： 029-859-2000(代表)） http://www.nims.go.jp/nims/office/tsukuba_sengen.html
プログラム
詳細版 クイックビュー
プロシーディングス
後日、アナウンス予定（出版を計画しています）
懇親会
１月２１日（日） 午後６時〜 前夜祭（有志懇親会） １月２２日（月）午後５時〜６時半 （国）物質・材料研究機構 第２会議室
完全事前登録制です。発表される方も、聴講の方も、いますぐクリックしてお申し込みを
問い合わせ
国立研究開発法人物質・材料研究機構 先端材料解析研究拠点 桜井健次
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801 e-mail sakurai@yuhgiri.nims.go.jp
参考
これまで開催したワークショップ、出版物など
