2008 第2回会合(3/27 7pm東京)
２００８年の新領域グループ第２回会合を次の通り、開催いたします。
ご参集くださいますよう、よろしくお願いいたします。
○日時 ３月２７日（木) 19:00～20:30
○場所 独立行政法人物質・材料研究機構 東京会議室
(〒105-0001 東京都港区虎ノ門3-2-2 虎ノ門30森ビル2F 201号室
TEL：03-5408-5682, FAX：03-3432-2153 )
http://www.nims.go.jp/jpn/visiting/tokyo-kaigishitsu.html
http://www.nims.go.jp/jpn/collabo/img/map.pdf
最寄り駅は地下鉄「神谷町」または「虎の門」です。
○夕食弁当 各自手配をお願いします（近くにコンビニ等があります）
○内容
１．近況報告（６０分）
ご出席の皆様、手短で結構ですので、お一人数分程度、近況をご報告くだ
さい。この会合は、事務事項の連絡よりも、こうした交流を大事にしたい
と願っております。
・最近の研究等
・ラウンドロビンテスト、標準化等
・Ｊ－ＰＡＲＣへのＲ＆Ｄ提案等
・施設・ビームライン等からのアナウンス
２．新領域グループの最近の活動（１０分）
・ＭＲＳ－Ｊプロシーディングス編集・発行
・科研費等の研究資金への応募
・第２回「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」講習会
・その他
３．０９年事業計画について（１５分）
・新領域グループの設置年限（３年）終了後の方針
・次期「埋もれた界面」ワークショップ
・「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」講習会
・「Ｘ線反射率法入門」書籍出版
・その次の書籍出版計画（埋もれた界面のサイエンス応用を中心と
する英語版）について
３．その他（５分）
○当日の緊急連絡 桜井の携帯 090-14322171にご連絡ください。
