2008年8月25日

次期シンポジウム案

来る2009春の応用物理学会(3月30日(月)~4月2日(木)、筑波大学) の折、「X線・中性子による埋もれた界面の解析の最前線」(仮称)シンポジウムを計画しております。このシンポジウムは、新研究会が主催する最初のイベントにあたるものです。
開催趣旨(案)、プログラム(案)を次の通り、準備したところですが、まだまだ検討不足の点があろうかと思います。ご意見、コメントなど、お待ちしております。何でもおっしゃってください。シンポジウムは、第1希望 3月31日(火)としたいと思っております。第2希望は翌4月1日(水)です。詳細未定ですが、シンポジウム終了後、懇親会も計画中です。

よろしくお願いいたします。

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(シンポジウム開催趣旨)
ナノサイエンス・ナノテクノロジーの研究開発においては、何がしかの物質によって覆われた「埋もれた界面」を扱う必要があり、X線・中性子による非破壊的な解析手法の活用が重要である。わが国では、大強度パルス中性子源J-PARCが2008年に中性子発生に成功しており、今後の本格的な研究に期待が集まっている。また、高輝度シンクロトロン放射光源等の先端研究施設を用い、微小領域分析、quick 計測等の高度化が進み、反射・回折・散乱および分光等の関連技術を総動員し、ナノサイエンス・テクノロジーの種々の未解決問題への取り組みが本格化しつつある。さらに、限られた範囲で実現しつつある超短パルスX線源や高コヒレーンスのX線源の利用にも大いに関心が集まっている。他方、こうした実験技術の進歩のみならず、理論的な研究との交流がこれまでになく重要になってきている。本シンポジウムでは、埋もれた界面の解析の各方面の専門家より最前線の状況の報告を受け、今後の課題を議論する。

(プログラム案)タイトルはほとんどのものが仮のものです。

9:00~9:20 イントロダクトリートーク:X線・中性子による埋もれた界面の解析の最近の動向(20分) 物材機構 桜井健次
9:20~10:00 J-PARC により開拓される新しいサイエンス(40分) J-PARC センター 新井正敏(交渉中)
10:00~10:40 半導体・電子材料における埋もれた界面の解析の意義(40分) 名古屋大学 竹田美和
10:40~11:00 休憩 (20分)
11:00~11:40 ソフトマテリアルにおける埋もれた界面の解析の意義(40分) 京都大学 金谷利治
11:40~12:20 界面の科学、特に金属(半導体)ー有機分子界面、固体ー液体界面、ナ ノ系界面の性質や興味ある界面現象などについて(40分) 早稲田大学 塚田捷
12:20~13:30 昼食(70分)
13:30~14:10 高輝度放射光による埋もれた界面の研究の最前線 (40分) JASRI/SPring-8 坂田修身
14:10~14:50 埋もれた界面に関する理論および計算科学研究の最前線(40分) 筑波大学 白石賢二
14:50~15:10 休憩 (20分)
15:10~15:30 埋もれた界面の構造解析のための和周波分光の理論および計算科学(20分)東北大学 森田明弘
15:30~15:50 界面の電子物性の理論研究(20分) 千葉大学 中山隆史
15:50~16:10 位相に着目した埋もれた界面の新解析技術の最前線(20分) 東京大学 矢代航
16:10~16:30 反射小角散乱法による埋もれた界面の解析の最前線(20分) 京都大学 奥田浩司
16:30~16:50 中性子を活用した薄膜材料の開発研究(20分) 日本原子力研究開発機構 朝岡秀人
16:50~17:10 サマリー&ディスカション (20分)