第３回講習会
第３回講習会「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」を次の通り開催することになりました。
次のホームページにも案内を出しております。
http://xray-neutron-buried-interface.jp/TutorialXRR2009.htm
ご関心のある方、ぜひいらしてください。
第1回、第2回の講習会の受講者アンケートの結果や、講師の感想、意見などをもとに第3回では次の改良を行うことにしました。
○受講者一人ひとりにできるだけ、きめ細かく対応できるようにするため、受け入れる受講者の総数を、第2回よりも少ない40名に限定した（少人数指導を特色とする）
○「Ｘ線反射率法の応用」の講義を「半導体・磁性体薄膜」と「有機薄膜」の２グループに分け、受講者がどちらかを選択できるようにした。
（以前から、シミュレーションとデータ解析の実習は３グループに分かれていたが、講義をパラレルでやるのは初めて）
○過去2回、非常に人気があった「Ｘ線反射率相談デスク」（昼休み、休憩時間等合計80分）は、7か所設け、講師７名がフル出場することにした。
（いつ行ってもいっぱいと言われていや混雑状況を緩和、受講者1人10分程度であれば、講師一人が8人対応できるので、今回は満足してもらえるのではないかと期待）
○「Ｘ線反射率法入門」（講談社）の出版がまもなく（1月末～2月頃）であり、講習会当日までに日があるため、受講申し込みの後、希望があれば、着払い宅急便で指定の場所に送付するサービスを実施。
