埋もれた界面のＸ線・中性子解析の将来に関する討論会
会合名称：「埋もれた界面のＸ線・中性子解析の将来に関する討論会」
主催：応用物理学会 埋もれた界面のＸ線・中性子解析研究会
日時： 2011年７月２６日（火） 8:30 ～11:30
（開場は 8:00 の予定）
場所： 物質・材料研究機構千現地区 （つくば市千現１－２－１）
研究本館１Ｆ 第２会議室
交通アクセス：
TX つくば駅から来られる方は、当機構の無料バスをご利用になると便利です
（「つくば駅」A3出口を直進、「企業バスのりばB」から出ています）
http://www.nims.go.jp/nims/office/files/nims-bus_bus-stop100506.pdf
http://www.nims.go.jp/nims/office/files/nims-bus_time-table.pdf
地図：
http://www.nims.go.jp/nims/office/tsukuba_sengen.html
応用物理学会 埋もれた界面のＸ線・中性子解析研究会は３年の節目を迎え、次の３年、さらにはその先を見通した展望のもとに、新たな計画を立案、着手しようとしています。参加者がそれぞれの研究の将来について語り、それより、分野全体の将来像や、研究会として取り組みべき課題を明らかにすることを目的としています。最終的に、そのような議論の成果を１冊のパンフレットとして出版する計画です。
プログラム
8：30 ~ 8：40 埋もれた界面のＸ線・中性子解析の将来について （物材機構 桜井健次）
8:40 ~ 11:30 参加者による話題提供、自由討論
