2016年2月 3日

2016年第2回研究会御礼

本日、2月3日(水)、東京・神保町の学術総合センターにて、本研究会の2016年第2回研究会を開催いたしました。

出席者(敬称略)、小川(京大化研)、井波(KEK)、高橋敏男(東大/学芸大)、宮田(CROSS東海)、永村、桜井(NIMS) 

の皆様には、ご多忙な中、ご参集くださり、午後1時から4時まで、3時間休憩なしで集中的な討論を熱心にして頂き、有難うございました。

1.「斜入射小角散乱法(GISAXS)とCT(トモグラフィー)法を組合せた表面・
界面可視化手法の開発」小川紘樹(京大化研)
2.「X線・中性子を用いた元素戦略磁石材料研究」井波暢人(KEK)

の2つの講演をうけ、活発な討論が行われました。

次回3月は、応用物理学会の会場(東工大大岡山)で開催します。またぜひいらしてください。
なお、同じ日の午前中は、7.4量子ビーム界面構造計測のポスターセッションですので、できるだけ朝1番から会場に入り、ポスターのあと、研究会に来ていただけると幸甚です。よろしくお願いいたします。

第3回研究会
日時: 2016年3月19日 (土)11:45 ~13:45
場所 東工大 大岡山キャンパス
〒152-8550 東京都目黒区大岡山2-12-1
http://meeting.jsap.or.jp/file/accessmap_ja.pdf
(最寄駅、東急大井町線・目黒線 大岡山駅)

講演:
1.「埋もれたエピタキシャル界面の構造変化」高橋正光(JAEA)

なお、終了後、短時間、運営に関する意見交換会(拡大常任幹事会)を持ちたいと思います。秋の応用物理(朱鷺メッセ)または2017の春に向けて、シンポジウムを企画するなど、ご提案を歓迎いたします。