2016年第2回研究会御礼
本日、2月3日（水）、東京・神保町の学術総合センターにて、本研究会の2016年第2回研究会を開催いたしました。
出席者（敬称略）、小川（京大化研）、井波（KEK）、高橋敏男（東大/学芸大）、宮田（CROSS東海）、永村、桜井（NIMS)
の皆様には、ご多忙な中、ご参集くださり、午後1時から4時まで、3時間休憩なしで集中的な討論を熱心にして頂き、有難うございました。
１．「斜入射小角散乱法(GISAXS)とCT(トモグラフィー)法を組合せた表面・
界面可視化手法の開発」小川紘樹（京大化研）
２．「X線・中性子を用いた元素戦略磁石材料研究」井波暢人(KEK)
の２つの講演をうけ、活発な討論が行われました。
次回３月は、応用物理学会の会場（東工大大岡山）で開催します。またぜひいらしてください。
なお、同じ日の午前中は、７．４量子ビーム界面構造計測のポスターセッションですので、できるだけ朝１番から会場に入り、ポスターのあと、研究会に来ていただけると幸甚です。よろしくお願いいたします。
第３回研究会
日時： 2016年3月19日 (土)11:45 ～13:45
場所 東工大 大岡山キャンパス
〒152-8550 東京都目黒区大岡山2-12-1
http://meeting.jsap.or.jp/file/accessmap_ja.pdf
（最寄駅、東急大井町線・目黒線 大岡山駅）
講演：
１．「埋もれたエピタキシャル界面の構造変化」高橋正光（JAEA）
なお、終了後、短時間、運営に関する意見交換会（拡大常任幹事会）を持ちたいと思います。秋の応用物理（朱鷺メッセ）または２０１７の春に向けて、シンポジウムを企画するなど、ご提案を歓迎いたします。
