シンポジウム報告（ＰＦニュース記事）
Photon Factoryニュースに報告記事を投稿しました。ＮＴＴの川村さんによる参加レポートも掲載される予定です。
http://pfwww.kek.jp/publications/pfnews/23_1/pfkondankai.pdf
以下、報告記事です。
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Ｘ線および中性子による反射率法は非破壊に薄膜・多層膜の表面や埋もれたナノ構造の情報を与える手法である。通常、平行化させた細束ビームにより微小角域で精密なθ/２θ走査を行う方法が用いられており、研究対象が安定な系、あまり変化しない系に限られていたが、最近、こうした角度走査を行わず、きわめて迅速にデータを取得する技術への期待感が高まっている。３月３０日（水）、2005年春の応用物理学会（埼玉大学）において、「素早い」「時分割」あるいは「試料をほとんど動かさない」反射率法および関連技法の技術開発動向と応用を展望したいという問題意識を背景として「Ｘ線・中性子による quick 反射率法の展望 - 表面や埋もれたナノ構造の変化を追う」と題するシンポジウム（平均参加者数、約６０名）が開催された。
Ｘ線反射率ユーザーグループでは、2001年12月以来、継続的に研究会を企画しており、今回が５回目である。来年は、ミニ国際ワークショップを開催する方向で検討中である。関心のある方は筆者まで積極的にお問い合わせいただきたい（e-mail sakurai@yuhgiri.nims.go.jp または sakurai@pas.tsukuba.ac.jp、 電話029-859-2821）。
