第7回講習会「X線反射率法による薄膜・多層膜の解析」(9/26(水)つくば)
ちょうど「新版X線反射率法入門」(講談社2018年刊)が刊行されるのにあわせ 講習会を開催いたします。
ぜひ皆様の周辺の方にお薦めください。受付も開始しております。
よろしくお願いいたします。
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第7回講習会「X線反射率法による薄膜・多層膜の解析」
http://xray-neutron-buried-interface.jp/TutorialXRR2018.pdf
主催 (公社)応用物理学会 埋もれた界面のX線・中性子解析研究会
(http://xray-neutron-buried-interface.jp/)
日時 2018年9月26日(水)9:00~16:30
場所 国立研究開発法人物質・材料研究機構 千現地区
(〒305-0047 茨城県つくば市千現 1-2-1 電話 029-859-2000)
http://www.nims.go.jp/jpn/visiting/tsukuba.html
最寄り駅 つくばエクスプレス線 つくば駅 南へ徒歩8分
http://www.mir.co.jp/
X線反射率法は、薄膜・多層膜の深さ方向の内部構造、具体的には、各層の膜厚、密度、各界面のラフネス等を非破壊的に求めることができる解析技術です。本講習会 では、X線反射率法の経験豊富な専門家(「新版X線反射率法入門」(講談社2018年刊)の執筆陣)を講師に迎え、基礎から丁寧に解説を行うとともに、シミュレーションやデータ解析の実習 を少人数グループにて、きめ細かく行ないます。 休憩時間には「X線反射率相談デスク」を設け、日頃の疑問、質問したくてもなかなかできなかったことに、 7名の専門家がお答えします。
08:40 開場、受付開始
09:00 -09:30 X線反射率法とは 桜井健次(物材機構)
09:30 -10:20 X線反射率実験の注意事項 表和彦(リガク)
10:20 -10:30 休憩
10:30 -12:00 X線反射率法のシミュレーション・データ解析実習(A,B,Cコース)
12:00 -13:00 昼食休憩 (12:30-13:00 X線反射率相談デスク、7箇所設置)
13:00 -13:40 X線反射率法のシミュレーション・データ解析実習(A,B,Cコース)
13:40 -14:20 X線反射率データ例① 有機・高分子薄膜 林好一 (名工大)
14:20 -15:00 X線反射率データ例② 磁性体薄膜 上田和浩(日立)
15:00 -15:10 休憩
15:10 -15:40 X線反射率データ例③ 半導体薄膜 淡路直樹(富士通)
15:40 -16:05 X線反射率データ例④ ナノドット 奥田浩司(京大)
16:05 -16:30 X線反射率データ例⑤ 先端電子材料 川村朋晃(日亜化学)
16:30 解散 (17:00まで X線反射率相談デスク、7箇所設置)
実習は、A. 実践コース (約4名 数年以上の経験のある方向け 担当 表和彦)、B. 体験コース (約8名 初心者もしくは経験1~2年の方向け 担当 淡路直樹)、C. 実演見学コース(約 8名 初心者もしくは経験1~2年の方向け 担当 桜井健次)に分かれて実施します。
A. 実践コース (担当 表和彦 約4名)
(検討したい実験データと ご自分のPCを必ずお持ちください。皆様の解析上の疑問点や不明点を個別指導致します。ご自分のデータをご自分で解析されたい方のみ参加できます。)
B. 体験コース(担当 淡路直樹 約8名)
(ご自分のPC(Windows)をお持ちください。実データの解析を体験して頂きます。講師が提供するいろいろな問題を考えて頂き、その解決を体感することで、データ解析のコツを習得できます。ソフトウエアとデータは講習会の数日前にダウンロードして頂きます。)
C. 実演見学コース (担当 桜井健次 約8名)
(講師が皆様の前でソフトウエアを使い、2~3の実データを例を素材として、シミュレーションを丹念に行うことの重要性やデータ解析の考え方、個々の細かな手順、注意事項を解説いたします。)
実習コースはA, B, C のなか からお選びいただきます。特にご希望のない場合も、個別にお話をうかががい、ご相談の上、最適のコースを決めさせて頂きます。人数に関しては応募状況によって増減することがあります。なお、当日になってからのコース変更はできません。ご注意ください。
教材
「新版X線反射率法入門」(講談社、6804円)を参考書として配布するほか( ご希望に応じ着払い宅急便にて事前送付も致します)、すべての講義に完全対応したレジュメを用意いたします。
定員
約20名
参加申込み
下記Webページにて、お申し込みください。
折り返し、詳細なご連絡をいたします。
http://xray-neutron-buried-interface.jp/ApplicationXRRschool.html
連絡先 国立研究開発法人 物質・材料研究機構
先端材料解析研究拠点 桜井健次
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801
e-mail SAKURAI.Kenji@nims.go.jp