06年第2回会合(3/22 武蔵工大)
来る３月２２日に新領域グループ第２回めの会合を以下の通り開催いたします。この時期、他にも多くの行事があり、出席が難しい方も多いかと思いますが、ご都合のつく方だけでもお集まりいただき、情報交換をしてゆきたいと願っております。
１件５～６分程度の近況報告をして下さる方は、pdf, ppt 等のファイルを USB メモリやSDカード等でお持ちください。飛び入りもＯＫですが、できれば事前にご連絡頂けると助かります。いずれにせよ、積極的にお願いいたします。
なお、第３回会合は、8/26 または 27 に立命館大学において、昼休みの時間帯に開催予定です。
○日時 ３月２２日（水) 12:10～13:30
○場所 武蔵工業大学世田谷キャンパス
8号館4F 843室
http://www.musashi-tech.ac.jp/CampusMap/sc.html
○昼食弁当 各自手配をお願いします。
学会事務局に手配を依頼することもできるのですが、人数に増減が生じた場合面倒なので、依頼しませんでした。
○内容 １．近況報告（５０分）
・施設・ビームライン等の現状・将来計画
・最近の研究等
報告予定者
川村（GIXD/XRによる次世代半導体基板の解析）
林（埋もれた界面の新手法）
鳥飼（中性子反射率計の計画）
桜井（NIMS 量子ビームプロジェクト μ-およびq-反射率技法）
２．７月の横浜でのワークショップの開催について（１０分)
３．秋の応用物理におけるシンポジウムの開催について（１０分)
４．その他（１０分）
・反射率法の国際標準化について
・大型予算等への応募計画等
○当日の緊急連絡 桜井の携帯 090-14322171にご連絡ください。
