第１回Ｘ線反射率講習会
第１回講習会「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」を次の通り開催いたします。
次のホームページにも案内がございます。
http://xray-neutron-buried-interface.jp/TutorialXRR2007.htm
ぜひお近くの方もお誘いいただけると幸いです。
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講習会「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」
主催 (社)応用物理学会 埋もれた界面のＸ線・中性子解析グループ
（http://xray-neutron-buried-interface.jp/）
協賛 日本放射光学会他
日時 2007年11月2９日（木）～３０日（金）
場所 （独）物質・材料研究機構千現地区
（〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1 http://www.nims.go.jp /)
Ｘ線反射率法は、薄膜・多層膜の深さ方向の内部構造、具体的には、各層の膜厚、密度、各界面のラフネス等を非破壊的に求めることができる解析技術です。本講習会は、入門コース（第１日目）と応用・発展コース（第２日目）からなります。
入門コースでは、企業等の研究者・技術者や大学院生で、これから勉強してＸ線反射率法を使ってみたい方々を、応用・発展コースでは、多少なりとも経験のある方でスキルアップなさりたい方々を対象としておりますが、両コースの通し参加も歓迎いたしております。Ｘ線反射率法の経験豊富な専門家を講師陣に迎え、基礎から丁寧に解説を行うとともに、シミュレーションやデータ解析の実習も行ないます。休憩時間には「Ｘ線反射率相談デスク」を設け、日頃の疑問に思っていること、質問したくてもなかなかできなかったことに、５～６名の専門家がお答えします。
カリキュラム
第１日目（１１月２９日（木）） 入門コース
9:00 - 9:30 Ｘ線反射率法とは 桜井健次（物材機構）
9:30 -10:20 Ｘ線反射率の装置・測定法 表和彦（リガク）
10:20 -10:40 休憩（Ｘ線反射率相談デスク）
10:40 -11:30 Ｘ線反射率法の半導体薄膜への応用 淡路直樹（富士通）
11:30 -12:00 Ｘ線反射率法のソフトマテリアル薄膜への応用 矢野陽子（立命
館大）
12:00 -13:00 昼食休憩（Ｘ線反射率相談デスク）
13:00 -13:50 Ｘ線反射率法の磁性体多層膜への応用 上田和浩（日立）
13:50 -14:20 休憩（Ｘ線反射率相談デスク）
14:20 -16:00 反射率法のシミュレーション実習
第２日目（１１月３０日（金）） 応用・発展コース
9:00 - 9:10 Ｘ線反射率法をどう活用するか 桜井健次（物材機構）
9:10 -10:00 全反射条件下での薄膜のＸ線回折法 川村朋晃（日亜化学）
10:00 -10:20 休憩（Ｘ線反射率相談デスク）
10:20 -11:10 ブラッグ点まわりのＸ線反射率法による化合物半導体の解析 竹
田美和（名大）
11:10 -12:00 反射小角散乱法によるナノ粒子の解析 奥田浩司（京大）
12:00 -13:00 昼食休憩（Ｘ線反射率相談デスク）
13:00 -16:00 反射率法のデータ解析実習
受講者がデータ解析のスキルを習得できる実習を予定しています。
ご希望があれば、あらかじめお預かりした試料について、当日までにこちらで反
射率測定を行い、そのデータ解析を体験して頂くことも可能です。試料をお持ち
の方は、申し込み時にその旨ご連絡下さい。
定員 ６０名（定員になり次第、締め切ります）
参加申込方法
氏名（ふりがな）、所属、住所、TEL、FAX、e-mail、ご希望のコースをご連絡下さい。折り返し受付の連絡を致します。
連絡先：〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1 物質・材料研究機構 桜井健次
（TEL 029-859-2821、FAX 029-859-2801、sakurai@yuhgiri.nims.go.jp）
