講習会「X線反射率による薄膜・多層膜の解析」再開決定
2010年３月以来休んでいた講習会「X線反射率による薄膜・多層膜の解析」を再開する運びなりました。
本講習会は、X線反射率法入門」（講談社, 2009年）の出版にかかわった主要著者が、そのまま講師でもあるところに特色のある講習会で、過去に４回開催されております。
第５回にあたる次回講習会は、来年2015年の8月27日（木）につくばで開催します。
もし皆様の周辺で、ご関心のある方がおられましたら、ぜひお薦め頂けると幸甚です。
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第５回講習会「Ｘ線反射率法による薄膜・多層膜の解析」
主催 (社)応用物理学会 埋もれた界面のＸ線・中性子解析研究会
日時 ２０１５年８月２７日（木）
場所 独立行政法人物質・材料研究機構 千現地区
（〒305-0047 茨城県つくば市千現 1-2-1 電話 029-859-2000
最寄り駅 つくばエクスプレス線 つくば駅 南へ徒歩８分
Ｘ線反射率法は、薄膜・多層膜の深さ方向の内部構造、具体的には、各層の膜厚、密度各界面のラフネス等を非破壊的に求めることができる解析技術です。本講習会 では、Ｘ線反射率法の経験豊富な専門家を講師陣に迎え、基礎から丁寧に解説を行うとともに、シミュレーションやデータ解析の実習 を少人数のグループにて、きめ細かく行ないます。 休憩時間には「Ｘ線反射率相談デスク」を設け、日頃の疑問に思っていること、質問したくてもなかなかできなかったことに、 ６名の専門家がお答えします。
08:30 開場、受付開始
09:00 -09:10 Ｘ線反射率法とは 桜井健次（物材機構）
09:10 -10:00 Ｘ線反射率法の基礎 淡路直樹（富士通）
10:00 -10:40 Ｘ線反射率 の測定装置・方法 表和彦（リガク）
10:40 -11:00 休憩 （Ｘ線反射率相談デスク、６箇所設置）
11:00 -11:40 Ｘ線反射率法 の応用①
半導体・電子材料への応用 川村朋晃（日亜化学）
11:40 -12:20 Ｘ線反射率法の応用②
磁性体多層膜への応用 上田和浩（日立）
12:20 -13:20 昼食休憩 （Ｘ線反射率相談デスク、６箇所設置）
13:20 -14:00 反射小角散乱法による材料研究 奥田浩司（ 京大）
14:00 -16:30 Ｘ線反射率法のデータ解析実習
A. 経験者コース (担当 表和彦 ６名程度まで)
（検討したいデータと ご自分のＰＣを必ずお持ちください。皆様の解析上の疑問点や不明点を個別指導致します 。このコースは、ご自分のデータをご自分で解析されたい方のみ参加できます。）
B. 解析体験コース (担当 淡路直樹 １２名程度まで)
（ご自分のＰＣをお持ちください。解析体験用の測定データを お配りし、実際の解析を体験して頂きます。もし既にお使いのソフトウエアがあればお持ちください。 そのソフトウエアでの解析を体験できます。もしお持ちでない場合は、こちらで用意したものをお使いください。）
C. 初学者コース （担当 桜井健次 １２名 程度まで）
（講師が皆様の前でソフトウエアを使い、２～３の事例をもとに、解析の個々の細かな手順や注意事項を丁寧に解説いたします。 使用するデータ等の電子ファイルはＣコース受講者全員に配布します。一部の方には、実際の ＰＣ上での操作も体験していただきます。）
実習コースはA, B, C のなか からお選びいただきます。特にご希望のない場合も、個別にお話をうかががい、ご相談の上、最適のコースを決めさせて頂きます。
教材
「Ｘ線反射率法入門」（講談社、5940円）を参考書として配布するほか （ご希望があれば、着払い宅急便にて事前送付も致します）、すべての講義に完全対応したレジュメを用意いたします。
定員
３０名
参加申込み
氏名（ふりがな）、所属、住所、TEL、FAX、e-mail、 実習コース（A, B, C）のご希望をご連絡下さい。折り返し受付の連絡をいたします 。
独立行政法人物質・材料研究機構
量子ビームユニット 高輝度光解析グループ
桜井健次
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801
