第３回講習会終了
おかげさまで、無事に第３回のＸ線反射率法講習会を終了することが出来ました。
ご協力いただいた講師ならびに準備関係のご協力を頂いた全関係者の皆様、どうも有難うございました。
アンケート結果サマリ
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受講申込み受付総数 ３０ （第１回６３ 第２回５０）
取り消し ０ （第１回１、第２回１）
欠席 １ （第２回２）
出席者数 ２９ （第２回４７）
応用編コース分け
半導体・磁性体薄膜 １６名 有機薄膜 １３名
実習コース分け
Ａ ６名 Ｂ ７名 Ｃ １６名 合計２９名
（第２回 Ａ ６名 Ｂ １８名 Ｃ ２０名 合計４６名）
アンケート回答数 ２８ （回収率９６．６％ 第２回９３．６％）
満足度分布（１０点満点）
１０ ４名、９ ５名、８ ７名、７ ４名、６ ２名、４ １名
無回答 ５名
無回答を除いた２３名の平均 ８．０４
なお、無回答５名のうち２名が「中級編受講希望」と記入
（参考）第２回
１０ ４名、９ ５名、８．５ １名、８ １６名、７ ９名、
５ １名、３ １名、２ １名、無回答 ６名
無回答を除いた３８名の平均 ７．７５
なお、無回答６名のうち３名が「再受講したい」と記入
講義内容について
「普通」が最多の１８（６４％）で、第１，２回よりも「難しかった」「とても難しかった」の比率が大幅に減少
リピーターの人から「昨年よりも分かりやすかった」というコメントもあり。
ただし、受講者の持っている知識、背景は、依然、多様であり、これだけ改良の努力をしても、まだ難しい、基礎的な事項の説明がほしいというコメントがある。
中級編（計画中）受講希望者数 ７ （２５％）
（参考）
再受講希望者数 第１回１０、第２回１５
東京都心開催希望 ２０ （７１．４％）
つくば開催希望 ３ （１０．７％）
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