2007年4月27日

埋もれた界面ワークショップ 2007

2007年のワークショップを下記の通り、開催いたします。

当グループの皆様全員が参加できるよう、ホテルも7月22日より2泊分、約60室ほど、おさえております。今回は、東北大学金属材料研究所よりご支援を頂き、会場の提供はもちろんのこと、ご講演ならびにプロシーディングス執筆をしてくださる方の旅費やプロシーディングス発行費用のほとんどをカバーできる見通しです。

傍聴はもちろんのこと、夜の企画における話題提供等、歓迎ですので、ぜひ積極的にご検討ください。

名称: 埋もれた界面のX線・中性子解析に関するワークショップ2007
   (ホームページ: http://xray-neutron-buried-interface.jp/2007ws.htm
日時: 2006年7月22日(日)~24日(火)
場所: 東北大学金属材料研究所 2号館講堂
     http://www.imr.tohoku.ac.jp/jpn/index.html
プログラム: こちら
プロシーディングス:
これまでのワークショップと同様、短くてよいですので、ご講演者全員のプロシーディングス原稿(英文)のご執筆をお願いいたします。本年は、英国 Institute of Physics の Journal of Physics: Conference Series (http://www.iop.org/EJ/)に皆様の論文を掲載することと致しました。ワークショップ期間中に原稿をお預かりし、直ちに査読を行い、ワークショップ終了後、約60日後にオンライン、電子版の出版、その後に冊子体やCDの発行を行なう画でおります。ご協力をお願いいたします。

招待状: ご講演の皆様、およびそうでないご出席の方でもご希望の皆様には、公式の招待状をお送りいたします。

ご講演頂く皆様には、すでに下記はご案内済みですが、ご出席くださる皆様は、お早目の表明をお願いいたします。ご面倒ですが、宿泊予約の関係上、次の情報をお知らせください。
 氏名:
 所属機関:
 所属部署:
 役職:
 勤務先郵便番号・住所:
 勤務先電話番号:

出張に際し、経済的なサポートを必要とされる方には、夜の部の企画での話題提供や、プロシーディングス執筆等へのご協力を頂くことを前提に、できるだけご相談に乗りたいと考えております。どうぞお気軽におっしゃってください。

また、こうしたワークショップ開催を通し、必ずしもX線、中性子の解析を専門としておられない研究者にも、声をかけ、当グループの活動の裾野をできるだけ拡大するとともに、私たち自身の視野を広げる機会にしてゆきたいと思っております。ぜひこのような観点でのご協力もよろしくお願いいたします。

2007年4月25日

2007秋の応用物理シンポジウム

来る2007秋の応用物理学会(9月4日(火)~8日(土)、北海道工業大学(札幌市手稲区) の折、企画しようとしている「X線・中性子による quick 反射率法の展望 - 表面や埋もれたナノ構造の変化を追う(III)」(仮称)シンポジウムについて、そろそろ締め切りが来ております。現状のプログラム案は以下の通りですが、追加してご講演の希望や推薦がある場合は、5月1日(火)正午頃までに、ご連絡ください。ご講演予定の皆様には、事務局に提出するプログラム案を準備する都合上、タイトル(仮)の見直しや、ご所属やお名前の誤記、誤字、脱字等の点検もよろしくお願いいたします。また、企画そのものに関するご意見、コメントなども歓迎いたします。何でもおっしゃってください。

シンポジウムは、第1希望 9月4日(火)としたいと思っております。同じ日の昼休みに、新領域グループの会合も行ないます。
また、詳細未定ですが、9月3日(月)の夕方に懇親会も計画中です。

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X線・中性子による quick 反射率法の展望 - 表面や埋もれたナノ構造の変化を追う(III) (案)

X線および中性子による反射率法は非破壊に薄膜・多層膜の表面や埋もれたナノ構造の情報を与える手法である。通常、平行化させた細束ビームにより微小角域で精密なθ/2θ走査を行う方法が用いられ、研究対象が安定で変化しない系に限られていたが、最近、こうした通常の角度走査とは異なる方法によりきわめて迅速にデータを取得する新技術への期待感が高まっている。本シンポジウムでは、
2005年春および2006年秋の応用物理のシンポジウムに続き、「素早い」「時分割」あるいは「試料をほとんど動かさないquick 反射率法および関連技法を用いた解析の現状と今後の課題を議論する。

(午前の座長) 吉田郵司(産総研)
09:30~09:50 イントロダクトリートーク:X線・中性子による quick 反射率法の最近の動向(20分)
        物材機構  桜井健次
09:50~10:30 quick で見たいもの:半導体ナノドット成長過程(40分)
        原子力機構 高橋正光
10:30~10:50 休憩 (20分)
10:50~11:30 quick で見たいもの:ソフトマテリアル界面(40分)
        立命館   矢野陽子
11:30~12:10 quick で見たいもの:ポリイミド薄膜の”配向”結晶化過程(40分)
        旭化成   松野信也
12:10~13:30 昼食(80分)

(午後前半の座長) 鳥飼直也(高エネ機構)
13:30~14:10 中性子の利用:環状高分子の相互拡散評価とその場観察(40分)
        名大    川口大輔
14:10~14:50 中性子の利用:リン脂質/添加塩混合薄膜からの巨大単層膜ベシクルの形成メカニズム(40分)
        KEK   山田悟史
14:50~15:10 休憩 (20分)

(午後後半の座長) 石井真史(物材機構)
15:10~15:50 quick のための装置技術:SPring-8における溶液界面反射率計の高度化(40分)
        JASRI/SPring-8 宇留賀朋哉
15:50~16:30 quick のための装置技術:ポリクロメータを用いた新しい反射率測定技術(40分)
        KEK   松下正
16:30~17:10 quick のための装置技術:新しい光学素子の開発と応用可能性(40分)
        京大国際融合創造セ 奥田浩司
17:10~17:30 サマリー&ディスカション (20分)