2015年1月20日

春の応用物理(研究会の日程変更)

春の応用物理(3/11~14, 東海大学湘南キャンパス)のプログラムがほぼ決まり
ました。

本研究会と関係の深いセッション「7.4 量子ビーム界面構造計測」では16件の
発表があります。多数の講演申込み、有難うございました。

3月13日(金) ポスター P会場  16:00-18:00
3月14日(土) 口頭講演A16会場 9:00-12:00

のような予定になります。

これにあわせ、毎回、会場内で昼休みに開催している研究会の日程を当初の 3月
11日から3月14日に変更することにさせて頂きます。

3月14日(土) 12:00 ~ 14:00
講演
 「強誘電体薄膜およびナノ粒子の構造と物性」 香野淳(福岡大)
 「SPring-8軟X線走査型光電子顕微鏡による電池材料のオペランド分析」永村
 直佳(東北大)

学会本部経由でお弁当を手配しますので、出席予定の方は2月上旬ごろまでにお
知らせ頂けると助かります。

2015年1月19日

春の応用物理

春の応用物理の件、「7.4量子ビーム界面構造計測」の申し込み講演数は
あまり多くありませんでしたので、今回、口頭講演のセッションはとりやめ、
全件、ポスター発表にまわって頂くことといたしました。口頭講演で申し込
まれた方には大変申し訳ありませんが、ご了承願います。

第1日目の3月19日(土)朝9時30分~11時30分、P会場です。

また、その後、昼休みに第3回研究会を開催します。皆様、ご参集ください。

2015年1月14日

サーバー復旧

先週から昨日午後まで、当研究室のサーバーが何度か接続できなくなり、メール
不達などが生じ、ご迷惑をお掛けしました。現状は、復活しております。どうも
申し訳ありませんでした。

先週の南草津の会合では大変お世話になりました。また、春の応用物理、新設セッ
ション7.4 への多数のご講演申込み、有難うございました。

引き続き、よろしくお願いいたします。

2015年1月11日

講習会「X線反射率による薄膜・多層膜の解析」再開決定

2010年3月以来休んでいた講習会「X線反射率による薄膜・多層膜の解析」を再開する運びなりました。
本講習会は、X線反射率法入門」(講談社, 2009年)の出版にかかわった主要著者が、そのまま講師でもあるところに特色のある講習会で、過去に4回開催されております。
第5回にあたる次回講習会は、来年2015年の8月27日(木)につくばで開催します
もし皆様の周辺で、ご関心のある方がおられましたら、ぜひお薦め頂けると幸甚です。
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第5回講習会「X線反射率法による薄膜・多層膜の解析」
主催 (社)応用物理学会 埋もれた界面のX線・中性子解析研究会
日時 2015年8月27日(木)
場所  独立行政法人物質・材料研究機構 千現地区
(〒305-0047 茨城県つくば市千現 1-2-1 電話 029-859-2000
最寄り駅 つくばエクスプレス線 つくば駅 南へ徒歩8分
X線反射率法は、薄膜・多層膜の深さ方向の内部構造、具体的には、各層の膜厚、密度各界面のラフネス等を非破壊的に求めることができる解析技術です。本講習会 では、X線反射率法の経験豊富な専門家を講師陣に迎え、基礎から丁寧に解説を行うとともに、シミュレーションやデータ解析の実習 を少人数のグループにて、きめ細かく行ないます。 休憩時間には「X線反射率相談デスク」を設け、日頃の疑問に思っていること、質問したくてもなかなかできなかったことに、 6名の専門家がお答えします。
08:30      開場、受付開始
09:00 -09:10  X線反射率法とは       桜井健次(物材機構)
09:10 -10:00  X線反射率法の基礎      淡路直樹(富士通)
10:00 -10:40  X線反射率 の測定装置・方法  表和彦(リガク)
10:40 -11:00  休憩  (X線反射率相談デスク、6箇所設置)
11:00 -11:40  X線反射率法 の応用① 
           半導体・電子材料への応用 川村朋晃(日亜化学)          
11:40 -12:20 X線反射率法の応用② 
           磁性体多層膜への応用  上田和浩(日立)
12:20 -13:20  昼食休憩  (X線反射率相談デスク、6箇所設置)
13:20 -14:00  反射小角散乱法による材料研究  奥田浩司( 京大)
14:00 -16:30  X線反射率法のデータ解析実習
A. 経験者コース  (担当 表和彦 6名程度まで)
(検討したいデータと ご自分のPCを必ずお持ちください。皆様の解析上の疑問点や不明点を個別指導致します 。このコースは、ご自分のデータをご自分で解析されたい方のみ参加できます。)
      B. 解析体験コース (担当 淡路直樹  12名程度まで)
(ご自分のPCをお持ちください。解析体験用の測定データを お配りし、実際の解析を体験して頂きます。もし既にお使いのソフトウエアがあればお持ちください。 そのソフトウエアでの解析を体験できます。もしお持ちでない場合は、こちらで用意したものをお使いください。)
      C. 初学者コース (担当 桜井健次 12名 程度まで)
(講師が皆様の前でソフトウエアを使い、2~3の事例をもとに、解析の個々の細かな手順や注意事項を丁寧に解説いたします。 使用するデータ等の電子ファイルはCコース受講者全員に配布します。一部の方には、実際の PC上での操作も体験していただきます。) 
実習コースはA, B, C のなか からお選びいただきます。特にご希望のない場合も、個別にお話をうかががい、ご相談の上、最適のコースを決めさせて頂きます。
教材
「X線反射率法入門」(講談社、5940円)を参考書として配布するほか (ご希望があれば、着払い宅急便にて事前送付も致します)、すべての講義に完全対応したレジュメを用意いたします。
定員 
30名
参加申込み
氏名(ふりがな)、所属、住所、TEL、FAX、e-mail、 実習コース(A, B, C)のご希望をご連絡下さい。折り返し受付の連絡をいたします 。
独立行政法人物質・材料研究機構
量子ビームユニット 高輝度光解析グループ 
桜井健次
TEL 029-859-2821 FAX 029-859-2801

2015年1月10日

2015年第1回研究会御礼

本日、1月10日(土)、立命館大学(放射光学会の会場内)において、本研究会の
2015年第1回会合を開催いたしました。
会場の場所をローム会館の3階とご案内していたのですが、知らない間に5階に変更になり、出席者の皆様にはたいへんご迷惑をお掛けしました。申し訳ありませんでした。
「軟X線反射小角散乱の最近の状況 - ALS WSの報告」奥田浩司(京大)
「サブミクロン集光X線を利用したX線反射率計の開発」 上田和浩(日立)
の2つの講演をうけました。低エネルギー領域のSAXS、0.3μのビームを用いたX線反射率測定のいずれも、少し前まではほとんど行うことのできなかった先進的かつ魅力的な研究であり、今後の一層の展開が大いに期待されます。合計で2時間、有意義な討論を行うことができ、本年のよいスタートになったと思います。
出席者(敬称略)、上田(日立)、奥田(京大)、高原(九大)、星野(理研)、坂田(NIMS)、矢代(東北大)、鈴木(名大)、永村(東北大)、宮田(CROSS東海)、荒川(東京学芸大)、谷田(京大)、渡辺(立命館)、桜井(NIMS) の皆様には、ご多忙な中、ご参集くださり熱心なご議論を頂き、誠に有難うございました。
特に、ご講演いただいた奥田さん、上田さん、どうも有難うございました。
次回は、NIMSのセミナーに便乗して、つくばでの研究会になります。
2月18日(水)午後4時~午後5時半
  物質・材料研究機構 千現地区(つくば市千現1-2-1)
  「GIUSAXS実空間イメージング法の開発と今後の展望」矢代航(東北大)
ぜひご参集ください。

2015年1月 6日

2015年春季学術講演会登壇締切(1月8日(木)17時)

応物学会からの案内です。皆様のお手元にも行っているでしょうか。
明後日、1月8日(木)が春の学会の申し込みの締め切りです。

今回から、7.4 量子ビーム界面構造計測. というセッションが新設されております。
活発なご発表をお願いいたします。

プログラムは1/20 頃に策定される予定です。皆様には、座長など、運営についても
ご協力をお願いしなくてはなりません。その折は、どうぞよろしくお願いいたします。


Forwarded by Kenji Sakurai <sakurai@yuhgiri.nims.go.jp>
----------------------- Original Message -----------------------
From:    "JSAP Meeting" <meeting@jsap.or.jp>
Date:    Mon, 05 Jan 2015 10:22:07 +0900
Subject: 【応用物理学会】2015年春季学術講演会登壇申込:締切は1月8日(木)17時です
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応用物理学会学術講演会登壇者の皆様

本メールは2012年秋季~2014年秋季講演会で登壇申込を
行った方、全員にお送りしております。

※※※
2015年春季学術講演会(東海大)の登壇申込の締切は1月8日(木)17時です。
PDF原稿のアップロードの締切も1月8日(木)17時です。
※※※

登壇申込(日本語)
http://meeting.jsap.or.jp/entry.html

Abstract Submission(English)
http://meeting.jsap.or.jp/eng/entry.html

<注意>
登壇申込の締め切りは「1月8日(木)17時」です。
締切日以降の申込、登録情報修正、予稿PDFの差し替え
講演の取消は一切できませんのでご注意ください。

今大会から
大分類13:半導体A(シリコン)
大分類14:半導体B(探索的材料・物性・デバイス)
が統合され「13.半導体」となりました。

また前回から
大分類3:光
大分類4:量子エレクトロニクス
大分類5:光エレクトロニクス
が統合され「3.光・フォトニクス」となっております。

「分科・キーワードリスト(PDF)」をよくご覧になり
どの分科に投稿するか決定してください。
http://meeting.jsap.or.jp/file/Section_Keyword_List.pdf

皆様のご登録、お待ちしております!
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公益社団法人 応用物理学会
The Japan Society of Applied Physics
講演会担当 Conference Coordinator

〒113-0034 東京都文京区湯島2-31-22
 湯島アーバンビル7階
Yushima Urban Bldg. 7F
2-31-22 Yushima, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0034

Tel : +81-3-5802-0864 Fax : +81-3-5802-6250
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